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线列式PECVD等离子体化学气相沉积镀膜欢乐谷国际娱乐平台
编号:SN20151013154830471
类别:PECVD欢乐谷娱乐中心平台等离子体化学气相沉积镀膜欢乐谷国际娱乐平台
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    欢乐谷国际娱乐平台用途

        本欢乐谷国际娱乐平台采用等离子体增强化学气相沉积技术,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    欢乐谷国际娱乐平台组成

        多室CVD结构由2个进出片室、3个独立PECVD反应真空室按直线结构连接,工件通过传输机构输送到各个真空室中进行工艺处理,各真空室间用插板阀连接。该系统主要由真空室、真空获得系统、射频和甚高频电源、衬底加热控温系统、气路系统、尾气处理系统、传动系统等部分组成。

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